近日，全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到6nm，线宽8nm，专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节，可通过高能电子束在硅基上"手写电路"，无需掩膜版即可灵活修改设计，其精度已比肩国际主流设备。这标志着我国量子芯片研发从此有了"中国刻刀"。
与之前曝光的英国、美国的EBL电子束光刻机（5纳米）相比，并不落后。
目前这台设备，还处于应用测试阶段，一旦测试OK，就可以大规模的应用于芯片制造中。可以说，这次真的算是一个巨大突破。