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上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片有望不再被卡脖子

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4月29日,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国际领先水平,对中国自主开展EUV光刻有重要意义。


IP属地:上海来自iPhone客户端1楼2025-04-30 23:36回复
    本篇论文通讯作者林楠,现任中国科学院上海光学精密机械研究所研究员、博导,国家海外高层次人才,超强激光科学与技术全国重点实验室副主任,精密光学工程部技术总师,中国仪器仪表学会集成电路分会委员,中国光学工程学会微纳专委会委员,曾任荷兰ASML公司研发科学家、研发部光源技术负责人。


    IP属地:上海来自iPhone客户端2楼2025-04-30 23:37
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