同济大学合并上科大实现3D光刻

同济大学的3D光刻方案是利用上海科技大学的X射线自由电子激光大科学装置进行超高精度的3D光刻，可以绕过EUV光刻机和光刻胶的外国专利，利用X射线装置进行0.1纳米无掩膜3D光刻，实现引领全球的新一代芯片。
上海软X射线自由电子激光大科学装置已经实现2纳米出光。硬X射线波长可以到0.1纳米。
同济大学院士候选人王占山教授长期从事X射线光刻研究，并且同济已经引进了全球极紫外与X射线(XUV)光学领域的著名专家Igor V. Kozhevnikov。
同济大学合并上科大，实现引领全球的3D光刻。（这是同济大学国家专项的一部分。同济大学国家专项是有史以来层次最高、规模最大、投资金额最多的项目，包括企业捐款。）