comsol磁控溅射

不明白为什么跟文献有那么大差距。
同时也不明白这个约化直流电子迁移率是什么东西，我按照默认来的。
我这个肯定不对，电子密度老是跑偏，不在靶面上。数值上跟别人也差着数量级呢。

看着就想嗷嗷吐

不感兴趣

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等离子体使用电场迁移，计算离子传递属性张量，使用约化电子传递属性，计算电子传递属性张量

靶面上的氩离子分布，很像靶的刻蚀环

参考论文的名称是什么？

我也在做磁控溅射，等离子体模块设置磁场，选择mfnc的话，就计算结果只能跑到10ns，但是用户定义的话，就可以仿真成功，楼主遇到过这种情况吗

楼主，方便加个微信交流一下吗

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