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深圳创达晖跃|HTCC陶瓷覆钨浆-化镀镍金工艺:提升电子元件工艺

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深圳创达晖跃|HTCC陶瓷覆钨浆-化镀镍金工艺:提升电子元件工艺能力
随着现代电子技术的飞速发展,高温共烧陶瓷(HTCC)技术因其结构强度高、化学稳定性好、电热性能优良及布线密度高等特点,在陶瓷封装、发热体、传感器等领域得到了广泛应用。其中,HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺作为关键工序和工艺,扮演着至关重要的角色。今天深圳创达晖跃小编将探讨HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的详细内容,一起来看看吧。
一、HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的制备流程
HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的制作是一个复杂而精细的过程,主要包括以下几个步骤:
1、前处理除油:去除陶瓷表面的油污和杂质;
2、酸洗:通过酸洗进一步清洁表面,为后续的镀镍操作创造理想的表面条件;
3、钨微蚀:对钨层进行微蚀刻,增加表面粗糙度,提高镀层的附着力;
4、钯活化:通过化学方法使钯离子吸附在钨的表面,为后续的化镀镍提供催化活性点;
5、电镀镍化镀镍硼:通过化学方法在元件表面沉积一层均匀致密的镍层。此过程需严格控制温度、镍浓度、pH值、沉积速率等参数,以保证镍层的质量和厚度均匀性;
6、热处理:让镍层与钨浆相互渗透,增加结合力;
7、二次化镀镍:进行二次镀镍,进一步增加镍层的厚度和均匀性;
8、电镀金化镀钯:在镍层上沉积一层钯,作为金的底层,防止沉金过程中对镍的腐蚀,并增加Bonding硬度;
9、化镀金:在钯层上沉积一层金,作为表层,提供优异的导电性和焊接性;
10、检验与测试膜厚检验:通过膜厚测试仪检测镀层的厚度,确保符合设计要求;
11、性能测试:进行中性盐雾测试、高温测试、锡焊效果测试等,确保镀层的质量。
二、HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的控制要点
1、制作流程规范化、标准化:确保每一步操作都有明确的标准和流程,减少人为误差;
2、严格控制工艺参数:包括温度、浓度、时间、循环量、水洗方式等,确保镀层的质量和稳定性;
3、完善生产记录:每批次产品必须做首件确认合格后才能进行小批试产再到批量生产,确保样品的批次合格率;
4、人员素质高:操作人员需要具备较高的专业素质和独立思考分析问题的能力,能够及时发现和解决生产中的问题;
5、全检方式:采用全检方式,对每个批次的产品进行抽测,确保产品质量。

三、HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的制程能力
1、镍厚度:一般为3-5UM,采用6-9范围的中磷化学镍,提供优异的耐腐蚀性和良好的附着性;
2、钯厚度:0.05-0.2UM,HTCC一般采用0.1UM和0.2UM的厚度,作为金的底层,防止沉金过程中对镍的腐蚀;
3、金厚度:0.05-0.8UM,HTCC一般采用0.2UM、0.3UM、0.7UM的厚度,提供优异的导电性和焊接性;
4、试验要求:满足中性盐雾测试24H、高温测试450℃情况下烘烤2分钟不变色、不起泡,锡焊效果良好,打金线效果良好;
5、焊接能力:满足与可伐盖板的焊接能力,确保电子元件的可靠性和稳定性。
四、HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的应用领域
1、HTCC陶瓷封装产品类型包括陶瓷多层基板和陶瓷封装管壳,具有机械强度高、布线密度高、BGA独立焊盘多、焊盘小的特点,广泛应用于高性能电子封装领域;
2、传感器HTCC陶瓷电镀镍金可用于多种传感器,如氧传感器、位移传感器、压力传感器、雷达传感器等,提供优异的导电性和焊接性,确保传感器的稳定性和可靠性;
3、其他需要替代电镀工艺的产品随着国产化市场需求的快速增长,HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺在替代传统电镀工艺方面展现出巨大的潜力,广泛应用于各类电子元件的制造中。
五、HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的市场趋势与发展前景
随着5G、物联网、可穿戴设备等新兴技术的快速发展,高可靠性能电子元件的小型化、需求日益增长,HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺因其独特优势,扮演着不可或缺的角色。未来几年,全球HTCC陶瓷基板用浆料市场将保持稳定的增长态势,市场需求将持续增长,为相关从业者带来巨大的商业机遇和发展空间。
总的来说,HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺作为高性能电子封装材料的表面处理工艺之一,在制备工艺、性能特点、应用领域及市场趋势等方面都具有显著的优势和潜力。未来,随着电子技术的不断发展和应用领域的不断拓展,HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的市场需求将持续增长,为相关从业者带来巨大的商业机遇和发展空间。因此,加强HTCC陶瓷覆钨浆-电镀镍金工艺的研发和应用推广具有重要意义,将有力推动电子封装行业的持续发展和创新升级。


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