1.原理
同步加速器（Synchrotron）中的高能粒子束在拐弯的时候会发射辐射，这个上世纪就发现了。但问题是光谱太广了，99.9%的能量在高能粒子束上，只有0.001%在13.5nm这个窄带上，剩下的光谱都没用，这个能效对于EUV光刻而言无法接受。
之前的SR（同步辐射）和FEL（自由电子）方案通过修改现有的Synchrotron，从而达到了集中输出EUV光束。但是效率依然不够高。日本某个fel光源给出的规模是800MeV
近几年新提出的SSMB则采用了一种微聚束的全相干控制，用激光调制器替换掉传统Synchrotron的微波调制器，把电子团聚集到一个纳米级别的尺度，从而大大提升了能量转化效率，只需要400MeV就满足需求了！
2.造价
2008年投入运营的BEPC二期对撞机工程，造价大约是10亿，周长240米，2GeV。而清华SSME方案周长150米，400MeV，有望把造价控制在15亿以内
ASML目前的EUV光刻机的售价是8亿，highNA EUV机台价格高达20亿。相比建造对撞机而言，性价比优势并不明显
3.优势
根据Intel的描述，asml的方案光束功率过小，需要11面反射镜，镀膜工艺极其复杂，而且会受到辐射腔中锡滴的污染，每半年要拆开重新抛光，维护费用和DUVi比极其高昂
而Synchrotron的维护就方便很多。仅使用3面反射镜，加工难度也大大降低了
总而言之，这玩意说不定真的比ASML方案高级！
同步加速器（Synchrotron）中的高能粒子束在拐弯的时候会发射辐射，这个上世纪就发现了。但问题是光谱太广了，99.9%的能量在高能粒子束上，只有0.001%在13.5nm这个窄带上，剩下的光谱都没用，这个能效对于EUV光刻而言无法接受。
之前的SR（同步辐射）和FEL（自由电子）方案通过修改现有的Synchrotron，从而达到了集中输出EUV光束。但是效率依然不够高。日本某个fel光源给出的规模是800MeV
近几年新提出的SSMB则采用了一种微聚束的全相干控制，用激光调制器替换掉传统Synchrotron的微波调制器，把电子团聚集到一个纳米级别的尺度，从而大大提升了能量转化效率，只需要400MeV就满足需求了！
2.造价
2008年投入运营的BEPC二期对撞机工程，造价大约是10亿，周长240米，2GeV。而清华SSME方案周长150米，400MeV，有望把造价控制在15亿以内
ASML目前的EUV光刻机的售价是8亿，highNA EUV机台价格高达20亿。相比建造对撞机而言，性价比优势并不明显
3.优势
根据Intel的描述，asml的方案光束功率过小，需要11面反射镜，镀膜工艺极其复杂，而且会受到辐射腔中锡滴的污染，每半年要拆开重新抛光，维护费用和DUVi比极其高昂
而Synchrotron的维护就方便很多。仅使用3面反射镜，加工难度也大大降低了
总而言之，这玩意说不定真的比ASML方案高级！
