光刻胶（photoresist）在紫外线条件下可以发生化学反应，形成一个微小的图案来进行光刻制程，实现对硅片等衬底表面的加工。而对于反射方面，因为光刻胶是一种液体透明材料，光线在其表面会产生折射，同时也会在与空气或其他介质的界面处产生反射，但这种反射对光刻胶的影响较小。在实际应用中，通常采用透射式光刻机，在曝光的过程中通过光阑等技术限制反射，并在显影之前使用特定的去反射剂对抗反射，以确保良好的光刻品质。因此，光刻胶会有一定的反射，但不会对正常的光刻加工造成明显的影响。