
事过境迁才在胡吹三星10nm,i8的面积为0.040um2,远远小于S8的0.049um2

另一方面是材料的选择,从EDS影像显示,两种10nm的FinFET成份组成是大同小异的,而且也没有出现跟以往不同的新材料,但是,i8在P-Fins的设计上有一个较独特的地方,我们发现了明显的锗(Ge)讯号出现在鳍片上,而且整整涵盖了三分之一的鳍片,意即i8直接将锗元素添加于P-Fins结构中;而对照S8的设计,在P-Fins结构的顶端也可观察到锗讯号,但是非常微弱,而且只占整体十分之一的鳍片长。
(在鳍片中添加锗能有效地提升电洞的迁移率)

i8与S8平行P-Fins方向上观察到闸极与SiGe部位的高角度环形暗场(HAADF)影像及其EDS mapping影像。我们可以因此推敲一些设计细节:i8所使用接触SiGe的金属触点W为多段设计,但S8却是一整块的W材料;另一方面,比较SiGe的大小面积,即可看到S8的SiGe相对面积较小,可能在制程的过程中有较大的SiGe损耗,这一点在i8中可以看到其SiGe整体结构优于S8的表现。

最后使用SEM观察整体SRAM金属联机的状况(图6),在此可以清楚地看到i8在这个部份远远胜过S8,粗估M1至M11,i8的尺寸就比S8将近少了300nm,