【图片】【科普】中国的半导体产业【显卡吧】

一楼不给看

我发现卡吧最起码90%以上的人认为WW生产点显卡就是半导体产业牛逼了，让我感到十分的震惊，吧内对于专业知识的匮乏居然到了这种地步，所以专门开一贴讲一下中国的半导体
先说什么是半导体工业
半导体工业的水平可不是看个人PC，半导体产业链的上游是制造设备，主要分成：离子植入设备，扩散设备，炉管设备，黄光设备，量测设备，蚀刻，光刻设备，CMP（化学机械研磨）设备，铜区设备，及其他辅助设备，要求条件最高的是PHOTO（黄光设备），要求的稳定性比较高。
中国目前搞不定的也就黄光区的光刻设备罢了，其它还是稍微可以拿出来晒一晒得，比如：扩散炉，晶圆清洗设备，热处理设备，离子注入设备，CVD/PECVD/ALD设备，涂布/显影，刻蚀/去胶/灰化，CMP，电镀系统等等。只是水平比世界最先进水平有差距罢了（先进水平指的是欧美）
而半导体制造设备里仅次于光刻机的刻蚀机，中国已经出口到日韩等国家了

太长不看

再比如Gigaphoton我想很多人都知道吧？日本仅有的几个拿得出手的激光器公司之一，专门造光刻机用的深紫外光源的。下面是该公司正在研制的最新一代的深紫外技术，用福建物构所发明的KBBFPCD，所以福建所啥也没干论文上也得带它名。

看看这玩意的专利，引用最多是哪个公司？搞笑吧？就是日本的Gigaphoton

KBBF棱镜一个好几万美元，主要就出口日本。
这玩意要产业化了，然而有几个人知道中国在光刻机产业的地位的？因为不牛皮乱吹而已！

你就说，为啥没有把英特尔和农企秒了？？
——————没错这只是个小尾巴。

顶

　　另外，光刻机下一步的发展是极紫外光线的步进光刻机，目前的深紫外的极限就是达到14纳米了，再往下发展很难，会导致设备很复杂，，成本变得很高，目前的荷兰的那个14纳米的深紫外的由于设计很复杂导致目前的开价是2亿美元一台！！！
　　所以10纳米制程一下的要用到极紫外技术了，目前荷兰那个德国日本美国中国都是在研发这个技术，除了荷兰出过一个样机以外，世界各国基本都是研发阶段。
　　极紫外光刻机有很多的难点，主要是物镜的精度更加的高，还有光源的功率的提高很难，
　　先说物镜的难点，因为极紫外光线的能量很高，一般的物镜材料不适用，现在使用的是多层的原子镀膜技术。这个技术很难就是了，还有要使用的反射镜片的精度要达到变态的0.1纳米。还有要在上面镀上几层的原子级别的薄膜。另外物镜的安装，因为每次反射光线后都要，从新调整镜片的位置，这个精度调整精度要达到0.3纳米！！！所有你调整镜片前先要测量镜片的位置，这个测量精度要达到0.1纳米！！！！还要调整。。。因为受重力和振动的影响，达到0.3的调整精度的物镜的安装平台的设计很难。。目前世界上美国还有日本德国都在研究这个，因为保密，基本没有什么具体设计的资料的公开。
　　那么在下一代的10纳米的极紫外光刻机上面的研发上中国是什么水平呢？？
　　先说光源。中国研发极紫外光源不难。因为中国的激光研发已经几十年了，，中国的光源的技术积累很扎实，不像日本那样要靠买德国亚深的技术，但是研发出极紫外光源不难，难得是你研发的极紫外光源要比较小可以安装在光刻机上面，还有光源质量要好，，还有功率要高。。功率要达到100瓦才可以产业化，目前德国亚深可以达到55瓦，亚深说的很快就会出100瓦的。日本这个通过收购亚深得到了这个技术。
　　中国07年就研发出了极紫外光刻机光源。是上海光机所研发的，目前中国这个光源的技术没有公布。
　　另外分析极紫外光刻机的物镜上面说了。镜片要大口径的0.1纳米的精度的镜片，这个中国已经解决了。还要在上面镀上几层的原子薄膜。。。在这个镀膜技术上中国是世界一流。镀的这个薄膜的理论反射极限是70%中国的可以达到65%!!!!!!!!!!!!
　　还有物镜的高精度安装平台设计，精度要达到0.3纳米，测量器精度要达到0.1纳米。测量器中国公布了。是世界水平的0.1纳米的。镜片镀膜技术也是世界水平，安装台和光源很好见到介绍的资料，这个估计是因为保密原因吧。。
　　不过在下一代光刻机上面中国的基础研究绝对领先日本！！！！日本的镜片加工是德国的光源是德国的镀膜日本水平一般。。。这几个中国都领先日本
　　所以不久的将来中国的22纳米光刻机 14纳米光刻机 32纳米的 45纳米的 65纳米的 100纳米的光刻机会把小鬼子的同类光刻机赶出市场。。
　　在下一代光刻机上面中国也会把小鬼子赶出市场。。小鬼子的光刻机在学习德国的核心技术上面都比不过荷兰。在全面掌握核心技术的中国面前会很快的被打出原形！！！！！