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江苏华林科纳半导体设备技术有限公司-----有机去蜡清洗机
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有机去蜡清洗机
一、设备外型结构及主要参数
1、控制模式: 手动控制模式 自动控制模式。
2、清洗能力:2-4英寸 1-2篮/批;
3、设备形式: 室内放置型。
5、机台总体结构定分为两部分,机械运行机构装置与机台前方;机台前方为清洗工作区域及机械行走区,机台后上方为电器和气路布置区域,后下方为液路布置区域。
二、工艺流程细节及槽体布局及配置
1、工艺说明:机械传动,自动方式实现槽体间传送工件;
2、腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性;
3、设备台面排列布局按用户要求配制。
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1楼
2015-08-10 10:35
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