lpp已经188w了，dpp也有120w

这是中国科学院大学微电子学院学生调研的结果，可信度不高。

人眼可见光波长范围 380nm～780nm，所以EUV 13.5nm 不可能是 紫色光，要普通摄像头也拍不了EUV光影像。所以 EUV 紫光照片 都是特效处理图，不可能是实拍图

光刻机 EUV光源，不是做成类似灯泡，能发出高功率EUV光 就行了，，，
锡等离子 点状光源（位于凹面布拉格收集面镜 焦点之一 上有）发出的EUV光，过滤、修整，均化成 亮度强度非常均匀的EUV照明 光场，所以照明系、统投影系统 布拉格面镜，加工精度要求极亮

EUV 锡等离子点光源，光收集面镜是：精密 椭圆反射面镜。
EUV光刻机 布拉格反射面镜，通常具有40到50层硅钼镀层。这些镀层由纳米级的硅（Si）和钼（Mo）薄膜交替沉积而成，每层厚度约为3.4nm。这种多层结构利用布拉格反射原理，在13.5nm波长下实现高反射率，同时对膜层厚度的控制精度要求极高，需控制在±0.01nm以内。

1915年诺贝尔物理奖得主 布拉格父子 提出 晶格衍射（类镜面反射） X光理论。
EUV光刻机，就是用 布拉格反射面镜（布拉格父子晶格衍射光理论），用硅钼镀层，晶格独特尺寸，高效反射 13.5纳米 EUV光

EUV 光刻机 难度，不仅仅 LPP 锡等离子光源 光强度功率问题，，
高精度布拉格面镜组加工问题，组件高精度安装问题校正问题，承载硅晶圆工件台纳米级精度定位 高速移动扫描问题……
真空光刻扫描问题，EUV光罩制造检测问题，EUV光刻胶问题……
几十万组件，超一百万小零件，精密组装 校调问题………
光学系统一点小问题，光场亮度不均 暗影，光刻图案不清晰变形，晶圆报废

ASML 高数值孔径 EUV 极紫外光刻机1080p 宣传视频：https://pan.baidu.com/s/16h5jF8TMjh87CdFOZ8e2-g 提取码:2m6y
可以看到 全球800家供应商，组装而成的 上百万零件 光刻机，结构极复杂，所以可能较长时间稳定无故障工作

可能EUV LPP 光源是一个真空 比较大 石英玻璃 封闭灯泡结构，有很高温度，液态锡状态 收集回收锡蒸汽